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精密熱板  光刻膠烤膠臺   堅膜烘膠臺

精密熱板 光刻膠烤膠臺 堅膜烘膠臺

簡要描述:

精密熱板 光刻膠烤膠臺 堅膜烘膠臺光刻膠在曝光完成后,光刻膠需要經過再一次烘烤,因為這次烘烤在曝光后,所以稱為“曝光后烘烤",簡稱后烘或堅膜,英文為Post Exposure Bake(PEB)。

 光刻膠在曝光完成后,光刻膠需要經過再一次烘烤,因為這次烘烤在曝光后,所以稱為“曝光后烘烤",簡稱后烘或堅膜,英文為Post Exposure Bake(PEB)。

  曝光后精密熱板  光刻膠烤膠臺   堅膜烘膠臺PEB烘烤的目的--通過加熱的方式,使得光化學反應能夠充分完成。

  對于酚醛樹脂體系的光刻膠,PEB可以擴散感光劑以消除駐波效應。并且,PEB溫度不同時,感光劑的擴散距離不同,消除駐波的效果也不一樣。PEB在110度時,消除駐波效應明顯。

  對于化學放大型光刻膠,在后烘過程中,光酸起到催化光刻膠樹脂的去保護反應(Deprotection Reaction),又稱為脫保護反應。


   大量實驗表明,烤膠臺烘烤溫度的起伏是影響線寬均勻性的主要因素之一。在設置后烘工藝時, 對熱盤溫度均勻性的要求一般比軟烘的要求更高。

精密熱板  光刻膠烤膠臺   堅膜烘膠臺性能

智能型烤膠機

加熱尺寸:220*220mm(可定制),適用于?200毫米(8英寸)圓片或200x 200毫米方片以下尺寸產品;

溫度范圍:RT~300°C 

溫度精度:0.1°C;

溫度均勻性:≤±0.5℃;

電動頂針調節高度: 0~30mm;

加熱臺表面:耐腐蝕硬質陽極氧化鋁制成;

控制器單元:7寸全彩觸摸屏,高級PLC控制,實現在指時間內自動升降,可以定時取片;

后烘精密熱板  光刻膠烤膠臺  PEB烤膠機 堅膜烘膠臺用途

      精密熱板用于固化光刻膠,固化環氧塑脂,掩膜版烘烤,柔性線路檢測,穿戴技術傳感器校準,可用于顯微鏡下使用以及其它需要高精度控溫的場合等。適用于半導體光刻工藝的前烘和堅膜、電路模塊的涂敷燒結和考核等工藝。


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